На московском предприятии ГК «Лассард» созданы первые экспериментальные экземпляры эксимерного лазера, который играет ключевую роль в литографическом процессе производства микроэлектроники с проектными нормами до 65 нм.
Эксимерный лазер, опытные образцы которого были изготовлены сегодня ГК «Лассард», позволяет утверждать, что мы приближаемся к производству литографов на 130 нм (они появятся в 2026 году), а в будущем и на 90 нм, сообщили в Министерстве промышленности.
— Лазер предоставляет возможность модифицировать характеристики для более тонкой топологии. Более того, мы уже работаем на перспективу, разрабатывая материалы и заказывая работы для установок 90 нм и 65 нм, — уточнили в министерстве.
ГК «Лассард» выступает в качестве разработчика эксимерного лазера для литографа. Сама же литографическая установка разрабатывается Зеленоградским нанотехнологическим центром. Её поставка запланирована на 2026 год, и потенциальные заказчики уже проявляют интерес. В частности, это «Микрон», который стремится масштабировать своё производство на 130 нм, 90 нм и 65 нм, где пока существует только экспериментальное производство. Потребность в переходе на серийное производство велика, для чего требуется литографическое оборудование с соответствующей точностью экспонирования.
На момент написания материала производство лазеров для литографов в России ещё не существовало. На тот момент только две компании в мире занимались их выпуском — японская GigaPhoton и американская Cymer.
Как сообщили в Минпроме, у России есть шанс стать третьей страной, наладившей такое производство. Теперь вопрос только в том, когда именно «после 2026 г.» начнётся сборка.
